Çin’de yarı iletken sektörünün önde gelen yöneticileri, ülkenin litografi teknolojisinde dışa bağımlılığını azaltmak için kapsamlı bir adım atılması gerektiğini gündeme taşıdı. Sektör temsilcileri, 2026 ile 2030 yılları arasında operasyonel litografi sistemleri geliştirebilmek amacıyla hükümetin ulusal ölçekte bir seferberlik başlatmasını talep ediyor. Naura Technology Group Başkanı Zhao Jinrong, Yangtze Memory Technologies Corp Başkanı ve Genel Müdürü Chen Nanxiang ile Empyrean Technology Başkanı Liu Weiping’in de aralarında bulunduğu isimler, bu çağrıyı bilimsel bir makale aracılığıyla kamuoyuna duyurdu. Çin Ulusal Bilim ve Teknoloji Derneği’ne bağlı Science and Technology Review dergisinde yayımlanan makalede, yarı iletken üretiminin son yıllarda küresel teknoloji rekabetinin merkezinde yer aldığı vurgulandı. Özellikle Çin ile ABD arasındaki teknoloji rekabetinde çip üretim teknolojilerinin stratejik bir alan haline geldiği ifade edilirken, ileri üretim süreçlerine erişimin kısıtlanmasının Çin’in teknoloji hedefleri üzerinde doğrudan etkili olduğu belirtiliyor.
ASML Benzeri Bir Ekosistem Kurulması Öneriliyor
Makaledeki değerlendirmelerde litografi teknolojisinin yarı iletken üretimindeki en kritik aşamalardan biri olduğu ifade edildi. Hollandalı çip ekipmanı üreticisi ASML örnek gösterilerek şirketin EUV litografi makinelerinde yaklaşık 5 bin tedarikçiden gelen 100 bin farklı bileşenin kullanıldığı aktarıldı. Bu sistemde ASML’nin temel rolünün farklı bileşenleri bir araya getiren bir entegratör olarak öne çıktığı belirtildi. EUV litografi makineleri günümüzde akıllı telefonlar, yapay zeka sistemleri ve yüksek performanslı bilgisayarlar için gerekli gelişmiş çiplerin üretiminde önemli bir yer tutuyor. Çinli yöneticiler, benzer bir üretim ve tedarik ekosisteminin ülkede oluşturulması gerektiğini vurgulayarak, bu hedef için somut uygulama planlarının hızlı şekilde hazırlanmasının önemine dikkat çekti.
Teknik Gelişmeler Var Ancak Zorluklar Devam Ediyor
Makale, Çin’in bazı kritik alanlarda ilerleme kaydettiğini ancak litografi sistemlerinin tam anlamıyla üretilebilmesi için önemli teknik engellerin devam ettiğini ortaya koyuyor. EUV lazer ışık kaynakları, wafer üretim süreçleri ve optik sistemler gibi bazı bileşenlerde ilerleme sağlandığı belirtilirken, bu parçaların tek bir sistem içinde sorunsuz şekilde entegre edilmesinin hala zorlu bir süreç olduğu ifade edildi. Ayrıca elektronik tasarım otomasyonu yazılımları, silikon wafer üretimi ve elektronik gazlar gibi alanların da yarı iletken tedarik zincirinde dikkat çeken başlıklar arasında yer aldığı aktarıldı. Çin hükümeti ise yarı iletken sektörünü stratejik alanlardan biri olarak değerlendirmeye devam ediyor. Başbakan Li Qiang tarafından açıklanan son hükümet çalışma raporunda yarı iletkenler, havacılık ve biyoteknoloji gibi sektörlerle birlikte geleceğin önemli teknoloji alanları arasında gösterildi. Verilere göre Çin, 28 nanometre ve üzerindeki üretim süreçlerinde küresel çip üretim kapasitesinin yaklaşık yüzde 33’ünü oluşturuyor.
