Intel, yarı iletken üretiminde yeni bir aşamaya geçti. Şirket, ASML tarafından geliştirilen yeni nesil High-NA aşırı ultraviyole (EUV) litografi teknolojisini yüksek hacimli çip üretiminde kullanan ilk üretici oldu. ASML'nin doğruladığı bilgiye göre Intel Foundry, Oregon'daki üretim tesislerinde Intel 18A üretim süreci kapsamında bazı kritik katmanları bu teknolojiyle üretmeye başladı. Yeni sistem, daha küçük transistörlerin daha yüksek hassasiyetle üretilmesine olanak tanırken, gelecekte daha güçlü ve daha verimli işlemcilerin geliştirilmesinin de önünü açıyor. Intel'in ilk etapta yalnızca belirli katmanlarda kullandığı High-NA EUV teknolojisinin, ilerleyen üretim süreçlerinde daha geniş kapsamda değerlendirilmesi planlanıyor. Şirket, bu adımla birlikte hem üretim verimliliğini artırmayı hem de yeni nesil işlemcilerde daha yüksek performans sunmayı hedefliyor.
Panther Lake İşlemcilerinde Kullanılmaya Başlandı
Intel, High-NA EUV teknolojisini ilk olarak Core Ultra Series 3 "Panther Lake" işlemcilerinin üretiminde kullanıyor. Ancak işlemcilerin tamamı bu yöntemle üretilmiyor. Şirket, yalnızca üretimin en kritik katmanlarında yeni nesil litografi sisteminden yararlanırken, diğer bölümlerde mevcut EUV ve farklı üretim tekniklerini kullanmayı sürdürüyor.
ASML tarafından yapılan açıklamaya göre High-NA EUV ile üretilen katmanlar, mevcut 0.33 NA EUV sistemleriyle aynı üretim verimliliğine ulaştı. Ayrıca aynı tasarım hem mevcut EUV sistemlerinde hem de yeni nesil High-NA makinelerinde üretilebildiği için üretim sürecinde esneklik sağlanıyor.
Daha Küçük Transistörler Ve Intel 14A Sürecine Hazırlık
High-NA EUV teknolojisi, mevcut EUV sistemleriyle aynı 13,5 nanometre dalga boyundaki ışığı kullanmasına rağmen optik sistemdeki sayısal açıklık değerinin 0.55'e yükseltilmesi sayesinde çok daha küçük devre desenlerinin tek pozlamayla oluşturulmasına imkan tanıyor. Bu yöntem, üretim hassasiyetini artırırken çoklu desenleme ihtiyacını azaltıyor ve daha yüksek transistör yoğunluğuna sahip çiplerin geliştirilmesini destekliyor.
Intel, bu teknolojinin ilerleyen dönemde Intel 14A üretim sürecinde daha fazla kritik katmanda kullanılacağını açıkladı. Şirket, yeni nesil litografi sisteminin yapay zeka odaklı yüksek performanslı işlemcilerin geliştirilmesine önemli katkı sağlayacağını değerlendiriyor.
